檢索結果:共3筆資料 檢索策略: "a-Si:H".ekeyword (精準) and ckeyword.raw="鈍化"
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本研究係以超高頻電漿輔助化學氣相沉積系統(VHF-PECVD)製備本質氫化非晶矽膜層用於鈍化單晶矽基材,研究重點之一為與射頻電漿輔助化學氣相沉積系統(RF-PECVD)製備氫化非晶矽膜層來作比較外,…
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本論文乃以未來世代高效率矽晶太陽能電池的技術發展為議題,針對矽晶太陽能電池製作可能的矽晶異質接合,依據實驗室既有的以本質氫化非晶矽為鈍化層的矽晶異質接合太陽能電池η = 19.6 %、Voc = 6…
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本研究係利用一低溫鋁擴散於非晶矽膜層使其形成p型多晶矽層之技 術,作為矽晶異質接合太陽電池製作之應用。以此技術製備p型膜層的實 驗結顯示,沉積厚度為30nm的非晶矽層與20nm厚的濺鍍鋁層接觸並經 …